中國臺灣網(wǎng)4月18日訊 據(jù)臺灣“中時(shí)電子報(bào)”報(bào)道， 國際半導(dǎo)體行業(yè)權(quán)威分析機(jī)構(gòu)Linley Group最新報(bào)告指出，英特爾長期芯片制造技術(shù)優(yōu)勢已正在消失，且新制程開發(fā)也落后競爭對手，臺積電、三星和格羅方德等不排除在2021年超車英特爾。
Linley Group首席分析師Linley Gwennap在報(bào)告中解析各家芯片電路“密度”，盡管各家制程命名不太一樣，但與英特爾的差距正逐漸縮小，如臺積電的7納米制程與英特爾的10納米幾乎非常接近。
Linley Gwennap認(rèn)為，臺積電、三星和格羅方德等3大競爭對手，在采購下一世代微影技術(shù)設(shè)備均比英特爾超前，3家業(yè)者有可能在2021年時(shí)超越英特爾。
此前《經(jīng)濟(jì)學(xué)人》雜志也曾提到，英特爾依循“摩爾定律”，過去在制程技術(shù)上一路領(lǐng)先，目前芯片生產(chǎn)技術(shù)為10納米，臺積電則超前至7納米，尤其臺積電將在6月出貨最先進(jìn)制程的半導(dǎo)體，搶下全球最強(qiáng)芯片的寶座，英特爾淪為老二。（中國臺灣網(wǎng) 王怡然）
原文標(biāo)題：國際半導(dǎo)體行業(yè)權(quán)威分析機(jī)構(gòu)稱臺積電將超車英特爾
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